Διαδικασία παραγωγής: τεμαχισμός, καθαρισμός, προετοιμασία σουέτ, περιφερειακή χάραξη, ηλιακός συλλέκτης αφαίρεση της οπίσθιας διασταύρωσης PN {0}}, κατασκευή άνω και κάτω ηλεκτροδίων, κατασκευή φιλμ αντανάκλασης, πυροσυσσωμάτωσης, δοκιμών και βαθμονόμησης, ηλιακού πάνελ κ.λπ. 10 βήματα . Η συγκεκριμένη περιγραφή της διαδικασίας κατασκευής των ηλιακών κυττάρων. Τεμαχισμός: Χρησιμοποιώντας κοπή πολλαπλών γραμμών, ηλιακός θερμοσίφωνας η ράβδος πυριτίου κόβεται σε τετράγωνες γκοφρέτες πυριτίου. Καθαρισμός: Χρησιμοποιήστε συμβατικές μεθόδους καθαρισμού πλακιδίων πυριτίου για να καθαρίσετε, ηλιακό πάνελ και, στη συνέχεια, χρησιμοποιήστε διάλυμα οξέος (ή αλκάλιο) για να αφαιρέσετε 30-50um από το κομμένο στρώμα ζημιάς στην επιφάνεια της γκοφρέτας πυριτίου. Προετοιμασία σουέτ: χαράξτε ανισοτροπικά τη γκοφρέτα πυριτίου με αλκαλικό διάλυμα για να προετοιμάσετε σουέτ στην επιφάνεια της γκοφρέτας πυριτίου. Διάδοση φωσφόρου: Η πηγή επίστρωσης (ή πηγή υγρού, ηλιακός θερμοσίφωνας ή πηγή στερεού φωσφόρου νιτριδίου) χρησιμοποιείται για διάχυση για να σχηματίσει μια ένωση PN +. Το βάθος διασταύρωσης είναι γενικά 0,3-0,5um.
Περιφερειακή χάραξη: Το στρώμα διάχυσης που σχηματίζεται στην περιφερειακή επιφάνεια της γκοφρέτας πυριτίου κατά τη διάχυση θα βραχυκυκλώσει το άνω και κάτω ηλεκτρόδιο της μπαταρίας. Το στρώμα περιφερικής διάχυσης αφαιρείται με επικάλυψη υγρής χάραξης ή ξηρή χάραξη πλάσματος. Αφαιρέστε την πίσω διασταύρωση PN +. Συνήθης μέθοδος υγρής χάραξης ή λείανσης για την αφαίρεση της διασταύρωσης PN +. Κατασκευή άνω και κάτω ηλεκτροδίων: χρήση εξάτμισης κενού, ηλεκτρολυτικής επίστρωσης νικελίου ηλιακού πάνελ ή εκτύπωσης πάστας αλουμινίου και διεργασίας σύντηξης. Πρώτα φτιάξτε το κάτω ηλεκτρόδιο, ηλιακό πάνελ και μετά φτιάξτε το πάνω ηλεκτρόδιο. Η εκτύπωση πάστας αλουμινίου είναι μια ευρέως χρησιμοποιούμενη μέθοδος διαδικασίας.
Κατασκευή μεμβράνης κατά της αντανάκλασης: Προκειμένου να μειωθεί η απώλεια αντανάκλασης, το ηλιακό πλαίσιο πρέπει να καλύπτεται ένα στρώμα μεμβράνης αντανάκλασης στην επιφάνεια της γκοφρέτας πυριτίου. Τα υλικά για την κατασκευή μεμβράνης αντανάκλασης περιλαμβάνουν MgF2, SiO2, Al2O3, SiO, Si3N4, TiO2, Ta2O5, ηλιακό πάνελ κ.λπ. Η μέθοδος διαδικασίας μπορεί να είναι μέθοδος επικάλυψης κενού, μέθοδος επικάλυψης ιόντων, μέθοδος εκτόξευσης, μέθοδος εκτύπωσης ηλιακού πίνακα, μέθοδος PECVD ή μέθοδος ψεκασμού, κ.λπ. Συγκόλληση: Αποσύνδεση του τσιπ μπαταρίας σε πλάκα νικελίου ή χαλκού Ταξινόμηση δοκιμής: Σύμφωνα με την καθορισμένη προδιαγραφή παραμέτρων, ταξινόμηση δοκιμής ηλιακού πλαισίου.